材料护照

Si · 硅靶材

硅靶材用于光学、显示、光伏与装饰镀膜中的硅基膜层。

硅靶材
材料族Metalloid
纯度2N8–4N
工艺Powder metallurgy / Melting and casting
配置Planar / Rotatable

适用行业:显示器、太阳能光伏、大面积玻璃、消费电子

材料规格摘要;具体纯度、尺寸、检测方法、包装与供货范围以技术协议为准。

规格

关键规格

用于初步筛选的规格摘要。

项目内容
材料Si / 硅靶材
纯度2N8–4N
制造工艺Powder metallurgy / Melting and casting
配置Planar / Rotatable
适用行业显示器 / 太阳能光伏 / 大面积玻璃 / 消费电子

工艺

制造链

不同材料选择不同的工艺组合。

粉末熔铸成型/烧结加工贴合清洗检测包装

资料与验证

让材料参数可以被验证

材料页给出的是规格摘要;正式项目还需要检测项目、报告范围与溅射评估。可以从资料中心下载目录,或直接联系技术团队。

  • 元素分析:ICP、XRF、LECO、GDMS
  • 微观结构:SEM、XRD、金相
  • 尺寸与贴合:超声、氦检、三坐标
  • 薄膜与溅射评估

把材料牌号与膜层目标发给我们

我们会从纯度、工艺、配置与检测四个维度确认可行性。