按材料、纯度与工艺查找靶材

ITO

氧化铟锡靶材

用于透明导电膜层的 ITO 靶材，适用于显示、触控、薄膜光伏与玻璃镀膜。

3N5–4N Oxide Planar / Rotatable

IGZO

IGZO 靶材

用于氧化物半导体沟道层的 IGZO 靶材，面向新型显示制程。

4N Oxide Planar / Rotatable

Al

铝靶材

高纯铝靶材，适用于显示、光伏、半导体与装饰镀膜中的金属层。

5N–5N5 Metal Planar / Rotatable

Cu

铜靶材

高纯铜靶材，适用于显示铜制程、光伏与半导体互连层。

4N5–6N Metal Planar / Rotatable

Mo

钼靶材

钼靶材用于显示与光伏的阻挡层、电极层与镀膜层。

3N5 Refractory metal Planar / Rotatable

Cr

铬靶材

铬靶材用于附着层、遮光层与装饰/功能镀膜。

3N5–4N Metal Planar / Rotatable

NbOx

氧化铌靶材

氧化铌靶材用于光学与显示膜层，支持反应溅射工艺。

4N Oxide Rotatable

Si

硅靶材

硅靶材用于光学、显示、光伏与装饰镀膜中的硅基膜层。

2N8–4N Metalloid Planar / Rotatable

Ti

钛靶材

钛靶材用于附着层、功能层与装饰镀膜，覆盖多种纯度与工艺。

2N8–4N5 Metal Planar / Rotatable

W

钨靶材

钨靶材用于高温、耐磨与阻挡层应用，适用于显示、光伏与半导体。

4N–5N Refractory metal Planar / Rotatable

AZO

铝掺杂氧化锌靶材

AZO 靶材用于透明导电与节能镀膜，是 ITO 之外的材料选择之一。

3N5 Oxide Planar / Rotatable

ZnO

氧化锌靶材

氧化锌靶材用于光伏与透明导电膜层。

4N Oxide Rotatable

CuGa

铜镓靶材

铜镓合金靶材用于薄膜光伏吸收层相关工艺。

4N Alloy Rotatable

In

铟靶材

铟靶材用于透明导电、光伏与功能镀膜。

4N Metal Planar / Rotatable

InSn

铟锡靶材

铟锡合金靶材用于玻璃与消费电子的功能/装饰镀膜。

3N–4N Alloy Rotatable

ZnAl

锌铝靶材

锌铝合金靶材用于大面积玻璃的中频溅射与功能膜层。

3N5 Alloy Rotatable

ZnSn

锌锡靶材

锌锡合金靶材用于大面积玻璃镀膜与功能膜层。

3N5 Alloy Rotatable

NiCr

镍铬靶材

镍铬合金靶材用于电阻、附着与装饰镀膜。

3N5 Alloy Planar / Rotatable

Ta

钽靶材

钽靶材用于半导体阻挡层与相关薄膜工艺。

4N Refractory metal Planar

WTi

钨钛靶材

钨钛合金靶材用于半导体阻挡层与互连相关膜层。

4N–4N5 Alloy Planar

Hartec

Hartec 耐磨靶材

面向耐磨与装饰镀膜的多工艺靶材，适用于玻璃与消费电子外观件。

4N Composite Planar / Rotatable

SiAl

硅铝靶材

硅铝合金靶材用于光学、玻璃与装饰镀膜。

3N–4N Alloy Planar / Rotatable

Sn

锡靶材

锡靶材用于玻璃与消费电子的功能/装饰镀膜。

4N Metal Rotatable

Zr

锆靶材

锆靶材用于功能膜层、装饰镀膜与耐蚀应用。

3N5–4N Metal Planar / Rotatable